甘露糖-金刚烷的具体合成路线是什么

甘露糖-金刚烷的具体合成路线如下：

合成路线

1. 保护甘露糖的羟基：通过保护基P保护甘露糖的5个羟基，保护基P为-COR1基团，其中R1表示芳基或(C1-C6)烷基，优选苯基。

2. 偶联反应：将步骤1获得的受保护的甘露糖与下式(II)化合物偶联，反应在碱、烷基卤化铝和任选的路易斯酸的存在下进行，优选地在正丁基锂、二乙基氯化铝和氯化铝的存在下进行。具体可分为三个子步骤：

• 用碱将式(II)化合物去质子化。

• 加入烷基卤化铝，优选二乙基氯化铝。

• 在路易斯酸，优选氯化铝的存在下，将步骤1获得的产物与步骤2的产物偶联。

3. 脱保护和偶联：

• 任选地将在步骤2后获得的化合物的末端炔脱保护，以获得其中R＝H的式(I)化合物。

• 将在步骤2获得的化合物或当适用时在步骤3a获得的化合物与下式(IV)化合物进行薗头偶联，其中X为卤素原子。

• 任选地将由基团P保护的羟基脱保护，以获得其中R"＝H的式(III)化合物。

• 回收在步骤3c获得的式(III)化合物或当适用时在步骤3d获得的式(III)化合物。

注意事项

• 反应过程中需严格控制反应条件，如温度、溶剂、催化剂等，以确保反应的顺利进行和产物的纯度。

• 具体的合成路线可能因起始原料和反应条件的不同而有所差异，需要根据实际情况进行调整。

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